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相位掩模的近场衍射特性分析 被引量:6

ANALYSIS OF THE NEAR FIELD DIFFRACTIVE CHARACTERISTIC OF PHASE MASK
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摘要 用相位掩模法制造光纤光栅是一种简单、有效的方法 .本文用标量衍射理论对相位掩模的近场衍射特性进行了分析 ,讨论了各级衍射光形成的干涉条纹的分布情况 。 Using phase mask to fabricate fiber gratings is a simple and effective method.In this paper,using scalar diffraction theory,the near field diffractive characteristic of phase mask is analyzed,the distribution of coherent pattern is also discussed.Some valuable conclusions and formulas are obtained.
出处 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第12期1100-1102,共3页 Acta Photonica Sinica
基金 国家自然科学基金资助项目!( 698780 0 1 )
关键词 光纤光栅 相位掩膜 近场光强分布 近场衍射特性 Fiber gratings Phase mask Near field intensity distributiod
  • 相关文献

参考文献1

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同被引文献35

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引证文献6

二级引证文献21

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