热灯丝CVD沉积金刚石膜系统中负衬底偏压增强活性离子流量的理论分析

Theory Analysis of Negative Substrate Bias Enhancing Flux of Active Ions in Filament Chemical Vapor Depostion Diamond Film System

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摘要本文对热灯丝 CVD沉积金刚石膜的核化过程进行了分析 ,从理论上研究了负衬底偏压增强活性离子的流量 . In this paper,the nucleation process of diamond by filament CVD was analyzed,and enhanced flux of ions by negative substrate bias was investigated in theory.

作者王必本王万录廖克俊肖金龙

机构地区重庆大学理学院应用物理系

出处《河南师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 2000年第4期22-26,共5页 Journal of Henan Normal University(Natural Science Edition)

基金国家自然科学基金资助项目!( 1 990 4 0 1 6)

关键词热灯丝CVD 负衬底偏压活性离子金刚石膜沉积 hot filament CVD negative substrate bias active io8

分类号 O484.1 [理学—固体物理]

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