摘要
薄膜是当前新材料发展的重要前沿领域,在新技术领域有着广泛的应用。薄膜的结构特别是界面状态,对于其性能有着重要影响。X射线衍射分析能给出膜的相组成,但却无法判定这些相的空间组态及分布。在这个问题上,电子显微术具有独特的优点。然而,由于制样难度大,时至今日,薄膜横截面的电镜研究,仍不多见。八十年代以来,我们开展了Ti-N系薄膜结构的电镜研究,先后研究了带Ti底层TiN膜(简称单层TiN膜),加入合金元素的Ti-B-N,(Ti,Al,V)N和Ti(C,N)膜,以及Ti-N多层膜。本文是这方面工作的系统总结。
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1991年第4期441-442,共2页
Journal of Chinese Electron Microscopy Society
