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FPA—2000i1型i线步进机
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摘要
FPA—2000il型i线步进机是日本佳能公司生产的用于16MDRAM批量生产的机型。该装置配备了数值孔径为0.52、曝光面积为加20mm见方的i谱线透镜。16MDRAM的设计规范约为0.5μm。FPA一2000il型机具有0.5μm的分辨率,是满足0.5μm工艺时代的大数值孔径i线步进机。
作者
郑国强
出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期57-61,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
LSI
光刻
i线步进机
曝光
透镜
分类号
TN470.57 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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阎晓君.
一种具有实用价值的准分子激光步进机的设计及其特性[J]
.电子工业专用设备,1995,24(3):61-61.
2
童志义.
用离轴照明进行0.35μm光刻[J]
.电子工业专用设备,1994,23(2):52-57.
3
国外光学微细加工设备集锦[J]
.电子工业专用设备,1991,20(3):62-68.
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Kawai.,H,董表义.
300mm 片子步进机的流片率[J]
.电子工业专用设备,1997,26(3):56-59.
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Arno.,WH,葛励冲.
0.5μm光刻采用大数值孔径i线步进机[J]
.电子工业专用设备,1997,26(3):42-50.
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公司与新品介绍[J]
.电子工业专用设备,2010(3):64-64.
7
葛劢.
国外准分子激光步进机的发展概况及前景[J]
.电子工业专用设备,1995,24(4):1-6.
8
刘恩荣.
通过镜头进行圆片—中间掩模对准的远紫外步进机[J]
.电子工业专用设备,1991,20(3):48-56.
9
Slona.,S,葛励冲.
用于光学光刻生产的提高型整片对准技术[J]
.电子工业专用设备,1997,26(2):55-58.
10
荣莹.
销售市场87亿美元的光刻机[J]
.微电子技术,1998(3):41-41.
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