摘要
美国空军研究实验室(US Air ForceResearch Lab,简称USAF实验室)的SergioR.Restaino最近报导了该实验室在用于自适应光学系统的液晶技术方面的研究工作状况.任何一个光学成像系统所能达到的最高分辨率,取决于进入并通过该系统的波前质量的保真程度.波前质量的变差产生于光学设计和加工中的偏差,以及诸如大气状况、甚至于成像系统的承载结构等一些随机因素所造成的像差.近20年来,人们所研究的自适应光学(Adaptive Optics,简称AO)技术正是为了实时地消除这些像差的影响.为了使复杂的AO系统简化并降低其成本,许多单位和部门开展了各种替代技术的研究,US-AF实验室在利用液晶器件作为AO系统的校正单元方面开展了不少工作.一个光学(成像)系统能够产生高保真和高分辨率图像的能力,是该光学系统的一个重要的标志特性.
出处
《光机电信息》
2000年第7期27-28,共2页
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