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退火损伤对Er注入GaAs和Yb注入InP发光的影响 被引量:1

Effect of Annealing Damages on Luminescences of Er,Yb-Implanted GaAs and InP
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摘要 本文报道了CaAs∶Er、InP∶Yb发光样品的二次离子质谱、X-射线双晶衍射测量结果及其与Er离子的表面成份的关系.分析讨论了退火损伤对GaAs∶Er和InP∶Yb发光的影响以及Er^(3+)复合体发光中心模型. The photoluminescences of Er^+ or Yb^+-implanted GaAs and InP after annealing is repo-rted. The surface distribution of Er ions in GaAs: Er annealed samples is analysed by secon-dary ion mass spectroscopy (SIMS), and the rocking curves of the related luminescent samplesare measured by X-ray double crystal diffraction for GaAs: Er, InP:Er and InP:Yb. The ef-fects of the annealing damages on the luminescences of GaAs: Er and InP:Yb are investigated,and the luminescent center model of Er^(3+) complex is discussed.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第2期80-86,共7页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金
关键词 稀土离子 注入 GAAS INP 光致发光 Rare earth ion GaAs InP Photoluminescence Luminescent center
  • 相关文献

参考文献4

  • 1曹望和,中国稀土学报,1990年
  • 2曹望和,1989年
  • 3Tsang W T,Appl Phys Lett,1986年,49卷,1686页
  • 4团体著者,固体发光,1976年

同被引文献3

  • 1陈孔军,1992年
  • 2徐天冰,1992年
  • 3朱沛然,1992年

引证文献1

二级引证文献2

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