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高压台面功率晶体管的工艺分析
被引量:
2
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摘要
本文给出了高压台面功率晶体管工艺分析,不仅为器件的工艺设计提供了依据,而且明确地指出了影响器件制造成品率的主要因素。
作者
孔德平
周荣勋
机构地区
东南大学电子工程系
宜兴市半导体厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第6期42-44,共3页
Semiconductor Technology
关键词
台面
功率晶体管
工艺
分类号
TN323.4 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1991年 第6期
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