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氮离子注入对番茄种子损伤研究初报

Primary study of tomato seeds damaged by N ion implantation
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摘要 离子注入和伴随离子注入的其他物理效应都能影响番茄种子的电导率和发芽率.电导率和发芽率之间有一定相关性,两者都能反映种子的损伤. Ion implantation and its accompanying physical effects can affect theelectrical conductivity and the germinatien percentage of tomato seed. Both of themcan reflect the seed damage, because certain correlativity with electrical conduc-tivity and germination percentage have proved.
出处 《安徽农业科学》 CAS 1991年第3期280-282,共3页 Journal of Anhui Agricultural Sciences
关键词 番茄 种子 离子注入 电导率 发芽率 Ion implantation Tomato Electrical conductivity Germination percentage
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