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平面型磷化铟双极型晶体管
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摘要
本文提出并制成一种平面型InP双极型晶体管.其基区采用Zn扩散,发射区采用Si离子注入,结果表明晶体管的共发射极电流增益h_(FE)=20,器件可在很小电流下工作(I_C=1μA,h_(FE)=5).由于器件结构和工艺类似Si平面晶体管,预计它可广泛应用于InP高速电路和光电单片集成电路.
作者
苏里曼
机构地区
北京电子管厂
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第1期119-120,共2页
Research & Progress of SSE
关键词
平面型
双极型
晶体管
磷化铟
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
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固体电子学研究与进展
1990年 第1期
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