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生产过程控制的微电流测量

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摘要 由于半导体器件日趋复杂,介电层厚度和栅极长度继续缩小,在半导体生产过程的控制中,微电流测量更显得重要。以前认为无足轻重的电流测量和二级效应现已变为不可忽视。其中包括测量晶体管的关断电流,即栅极感应漏极漏电电流(GIDL)、漏极感应势垒下降(DIBL)和应力感应漏电电流(SILC)以及介质吸收效应等。
作者 王绍文
出处 《世界产品与技术》 2000年第4期55-57,共3页
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