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生产过程控制的微电流测量
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摘要
由于半导体器件日趋复杂,介电层厚度和栅极长度继续缩小,在半导体生产过程的控制中,微电流测量更显得重要。以前认为无足轻重的电流测量和二级效应现已变为不可忽视。其中包括测量晶体管的关断电流,即栅极感应漏极漏电电流(GIDL)、漏极感应势垒下降(DIBL)和应力感应漏电电流(SILC)以及介质吸收效应等。
作者
王绍文
出处
《世界产品与技术》
2000年第4期55-57,共3页
关键词
生产过程控制
微电流测量
漏电电流
分类号
TM933.1 [电气工程—电力电子与电力传动]
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