回眸五十年的艰辛细微之处见业绩——我国制版光刻技术的发展轨迹

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摘要自从1958年世界上出现第一块平面集成电路开始算起,在短短的四十年中,微电子技术以令世人震惊的速度,创造了人间奇迹。Intel公司推出0.25微米工艺的550MHz的奔腾Ⅲ微处理器,存储器也比预测提早一年跨进千兆位时代(GBit,0.18微米工艺技术),甚至都已研制出运算速度极高的光子计算机芯片。加工尺寸也从当初数十微米的加工精度进入现在的深亚微米、百纳米以至纳米级超精细加工精度,这一切都离不开光掩膜制造技术和光刻技术的进步。

作者陈宝钦

机构地区中国科学院微电子中心

出处《世界产品与技术》 2000年第4期10-11,共2页

关键词制版光刻技术中国电子产业半导体产业

分类号 F426.63 [经济管理—产业经济]

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