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迈向二十一世纪的集成电路技术

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摘要九十年代LSI工艺的发展仍然依照摩尔定律(每三年器件尺寸缩小2/3,芯片面积增加1.5倍和芯片中晶体管数目增加4倍)所预言的发展速度急剧增长。这十年来凝聚着科技工作者无穷智慧的成果给全世界的军事、经济和民生等方方面面带来了始料未及的巨大革命性变化。微细加工技术已从0.6微米提高到0.

作者吴德馨

机构地区中科院

出处《世界产品与技术》 2000年第4期5-6,共2页

关键词集成电路超微细加工铜互连 CMOS工艺

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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