摘要
本文综述了近几十年才研制发展的一种新型的用于材料表面改性的离子注入新技术——等离子体浸没离子注入 (P ) ,待处理的材料直接浸泡在等离子体中进行处理。该技术保留了常规束线离子注入(CB )技术的主要特点 ,还具有需多独特的特点。将系统介绍该技术在现代材料表面改性中的各方面应用及发展。
This paper describes a new ion implant technique used in the material surface modification——plasma immersion ion implant(PⅢ),untreated material are placed directly in a plasma source chamber. It keeps in conventional beam ion implant speciality (CBⅡ),and also has special advantage, this article will systematically introduce its application and development in various fields.
出处
《真空》
CAS
北大核心
2000年第1期40-43,共4页
Vacuum
关键词
表面改性
材料性能
等离子体注入
plasma immersion ion implant(PⅢ)
surface modification
conventional beam ion implant(CBⅡ)
