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非晶硅发射区晶体管及其低温特性 被引量:1

High Current Gain Bipolar Transistor With Amorphous Emitter and Its Low Temperature Characteristics
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摘要 本文报道了我们研制的一种具有较高电流增益的含氢非晶硅(α-Si:H)发射区异质结双极晶体管(HBT),对其进行了理论分析和实验研究;并提出了其电流增益的低温模型.研究结果表明:(1)该器件的电流增益与常规双极晶体管一样;(2)电流增益的温度系数为正值,其值小于常规双极晶体管.
出处 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1990年第7期44-46,共3页 Microelectronics & Computer
基金 国家自然科学基金
关键词 非晶硅 发射区 晶体管 低温特性 Current Gain Low Temperature Heterojunction Amorphous Emitter
  • 相关文献

参考文献4

  • 1叶良修,半导体物理学,1988年
  • 2苏里曼,固体电子学研究与进展,1987年,7卷,4期,331页
  • 3陈坤基,非晶态半导体物理引论,1987年
  • 4团体著者,晶体管原理,1980年

同被引文献2

引证文献1

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