应用于TiN薄膜沉积的环形等离子体源
-
1于波.用荷能粒子镀光学薄膜[J].光机电信息,1997,14(8):7-12.
-
2民众.用微波功率维持的平板等离子体源[J].等离子体应用技术快报,1999(9):11-13.
-
3李川.Mo—N薄膜的沉积和性能[J].等离子体应用技术快报,1996(11):20-21.
-
4李学林,冯顺山,陈国光.Formation of high density TiN nanocrystals and its application in non-volatile memories[J].Chinese Physics B,2008,17(3):1070-1077.
-
5谢雁,李世直.RF-PCVD沉积参数对TiN沉积速率的影响[J].青岛化工学院学报(自然科学版),1995,16(1):65-69.
-
6李民.新型紧凑微波径向束源[J].等离子体应用技术快报,1998(10):14-15.
-
7康卫红.线性弧放电—一种新型的空心阴极等离子体源[J].等离子体应用技术快报,1997(10):8-10.
-
8马兵.不同尺寸PACVD反应器内工艺参数对TiN生长的影响[J].等离子体应用技术快报,2000(10):21-23.
-
9甘德昌.电子和激光照射作为氧化锆薄膜沉积的能源[J].等离子体应用技术快报,1997(2):4-4.
-
10江舟.用于薄膜沉积的等离子体同轴放电[J].等离子体应用技术快报,2000(9):23-24.
;