摘要
报道一个 Ｍ Ｏ Ｃ Ｖ Ｄ 全方位综合工艺模拟系统． 该系统包含反应室气流流体力学模拟、化学反应热力学模拟和沉积过程动力学模拟等 ３ 个子系统， 它们可以独立运行， 也可以联合运行．
A general processing simulation system for MOCVD is presented. This software package includes three subsystems: reactor fluid mechanics simulation subsystem, reaction thermodynamic simulation subsystem, deposition kinetics simulation subsystem. These subsystems can run independently for different aims, also can run jointly for complete simulation of MOCVD.
出处
《吉林大学自然科学学报》
CAS
CSCD
1999年第2期72-74,共3页
Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
基金
国家自然科学基金
关键词
MOCVD
工艺模拟系统
半导体
薄膜
沉积过程
MOCVD, processing simulation system, reactor fluid mechanics simulation, reactor thermodynamic simulation, deposition kinetics simulation
