Nd(Ⅲ)对Ni-Fe合金电沉积及镀层结构影响的研究

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摘要应用合金电沉积分极化曲线的测量，以及Ｘ－射线衍射法研究了Ｎｄ（Ⅲ）对Ｎｉ－Ｆｅ合金共沉积过程的影响．实验结果表明：Ｎｄ（Ⅲ）对Ｎｉ（Ⅱ）的沉积起阻化作用，而对Ｆｅ（Ⅱ）的沉积起催化作用，因而加剧了Ｎｉ－Ｆｅ合金共沉积的异常行为．此外，Ｎｄ（Ⅲ）既是镀层晶粒的细化剂，也是应力的消除剂。

作者李曼安

机构地区华侨大学应用化学系

出处《华侨大学学报（自然科学版）》 CAS 1998年第4期362-366,共5页 Journal of Huaqiao University(Natural Science)

关键词共沉积纳米级钕镀层结构镍铁合金电沉积

分类号 TQ153.2 [化学工程—电化学工业]

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