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SIMS在半导体生产中的应用
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摘要
介绍SIMS分析技术在半导体生产中的几个典型应用实例:在材料分析方面的应用---鉴别杂质成分;在工艺分析方面的应用--了解工艺情况;在解剖分析方面的应用-获得器件内部组成成分。以此说明SIMS分析技术在半导体生产中的重要性。
作者
赵梦壁
机构地区
中国华晶电子集团公司理化技术支持中心
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1998年第A12期136-139,共4页
Vacuum Science and Technology
关键词
铝靶
解剖分析
杂质成分
深度分布
半导体
SIMS
分类号
TN304.07 [电子电信—物理电子学]
O657.99 [理学—分析化学]
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2
Crassenbauer M,Wilnaritz P, Stingeder G. In-situ Trac Analysis of Materials with SIMS.
1
陈庆佑,王国敏.
硅橡胶对像增强器亮度增益的影响[J]
.真空电子技术,1999,12(6):42-46.
2
晶体与微声材料[J]
.电子科技文摘,1999(10):11-11.
3
邱文武,李娟.
采用溶剂萃取法从半导体生产废酸液中回收乙酸的技术研究[J]
.山东化工,2015,44(7):160-162.
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赵云雨.
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.牡丹江大学学报,2010,19(7):95-97.
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熊幸明.
程控语音调制集成电路HT—8950及其应用[J]
.电子技术(上海),1995,22(3):31-32.
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张书达,朱瑶华.
金刚石表面杂质的深度分布[J]
.高压物理学报,1992,6(3):175-179.
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7
满宝元,王公堂,刘爱华,王象泰.
不同气压背景下激光烧蚀Al靶产生等离子体特性分析[J]
.光谱学与光谱分析,1998,18(4):411-415.
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.化学学报,1990,48(1):92-94.
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.中国光学,2000(4):84-85.
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真空科学与技术
1998年 第A12期
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