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等离子刻蚀过程中的微弱信号提取与终点监测
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摘要
在用等离子发射光谱技术监测大规模集成电路等离子刻蚀过程及科点时,为有效地抑制本底光对监测结果的影响,作者采用了双波长法和具有采样跟踪滤波器的锁相技术,从强光背景中提取了反映等离子刻蚀过程的微弱等离子谱信号。
作者
米宝永
宋克非
机构地区
中国科学院长春光学精密机械研究所
出处
《数据采集与处理》
CSCD
1998年第A10期55-58,共4页
Journal of Data Acquisition and Processing
关键词
集成电路
LSI
等离子刻蚀过程
微弱信号
监测
分类号
TN470.598 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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数据采集与处理
1998年 第A10期
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