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化学气相沉积耐磨涂层TiN的温度选择 被引量:2

Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films
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摘要 化学气相沉积(CVD)TiN涂层在模具上涂复3~10μm可使模具寿命提高3~4倍。本文研究指出:沉积温度对沉积速率、涂层硬度及对基体Cr12MoV硬度和尺寸都有影响。在950~1000℃间可以得到接近化学计量的TiN,其硬度Hv(1)≈20000N/mm^2,基体尺寸变化在万分之五以内。 The effects of the deposition temperature on the chemical vapor deposition (CVD) rate, the bulk hardness value of TiN deposite and the hardness and the dimension of the steel base were investigated. TiN film obtained at temperatures between 950 and 1000℃, were stoichiometric composition, golden-yellow in color, and the high hardness (Hv1≈2000N/mm2). The hardness and dimension of the steel base depend on the deposition temperature. The variety of dimension for the steel base is less than 0.0005 if it is tempered after deposition.
出处 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第1期69-73,共5页 Journal of University of Science and Technology Beijing
关键词 涂层 TIN 模具 气相沉积 氮化钛 coating, die, TiN film, CVD
  • 相关文献

参考文献1

  • 1匿名著者,模具材料及其热处理,1982年

同被引文献4

  • 1张林荣,北京科技大学学报,1988年,3期,360页
  • 2匿名著者,国外金属热处理,1988年,5期,18页
  • 3匿名著者,国外金属热处理,1988年,1期,23页
  • 4匿名著者,润滑,1983年,11期,821页

引证文献2

二级引证文献3

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