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国内外硅片磨抛设备发展述评
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摘要
硅片磨抛设备的发展轻快。成熟较早;八十年代中期业已进入完善阶段,其产品各具特色。从总结特点出发,评述其水平与发展。
作者
谢中生
机构地区
电子工业部第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
1998年第4期5-8,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
硅片
磨抛
抛光
半导体制造工艺
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
1998年 第4期
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