期刊文献+

薄层电解池流动注射法测定铜 被引量:3

Thin-Layer Electrolytic Cell Determination of Copper by Flow Injection Method
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 薄层电解池做高压液相色谱鉴定器的报道较多。但不用分离装置的简单薄层电解池流动注射法国内似尚未见正式报道,国外报道也很少。Alexandra等曾以管状金电极流动注射安培法测定氯。我们分别以大面积银、铜、玻璃碳、铜面镀金为工作电极装配电解池,试验发现以玻璃碳为最佳。本文报道薄层电解池的结构及用薄层电解池流动注射法测定铜的试验条件及结果。 The construction and characteristics of a thin-layer electrolytic cell with graphite glass as working electrode are presented. In the medium of NH4Cl-NH3H2O, the peak current is proportional to the concentration of copper from 10-6mol/L to 10-2 mol/L(1 .27 ×10-5-1 .27 ×10-9 g Cu) at a voltage of -0.30V. The correlation coefficient is 0.99. During the determinationt the charging current and poison of mercury do not exist, and oxygen must in the solution must not be removed. The method has been applied to determination of copper in aluminium alloy and in the steel.
出处 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1989年第5期554-556,共3页 Chemical Journal of Chinese Universities
关键词 测定 薄层电解池 流动注射法 Thin-layer electrolytic cell,Determination of copper, Flow injection method
  • 相关文献

参考文献2

  • 1赵旭,BASIC实用程序100例,1985年
  • 2朱元保,电化学数据手册,1985年

同被引文献1036

引证文献3

二级引证文献19

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部