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卫星通信在民航空管中的应用 被引量:1

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作者 徐军库
出处 《通讯世界》 1998年第11期68-69,共2页 Telecom World
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  • 1苏洁梅,戴基智,杨亚培.光波导放大器的研究进展[J].激光技术,2004,28(6):604-608. 被引量:4
  • 2谭娜,段淑卿,张庆瑜.退火温度对Er/Yb共掺Al_2O_3薄膜的光致荧光光谱的影响[J].物理学报,2005,54(9):4433-4438. 被引量:3
  • 3陈荣华,熊剑峰,吴芸.全光网——光通信的发展方向[J].江西通信科技,2006(3):17-19. 被引量:2
  • 4Polman A. Erbium implanted thin film photonic materials. J Appl Phys,1997,82 (1) :1
  • 5Rogers J L, Andry P S, Varhue W J, et al. Erbium-doped silicon films grown by plasma-enhanced chemical-vapor deposition. J Appl Phys,1995,78(10). 6241
  • 6Gourbilleau F, Dufour C,Levalois M, et al. Room-temperature 1.54μm photo luminescence from Er-doped Si-rich silicon layers by reative magnetron sputtering. J Appl Phys, 2003,94(6): 3869
  • 7Okoshi M,Kuramatsu M, Inoue N. Optical waveguides fabricated by pulsed-laser deposition of SiO2 films with different refractive indices. Appl Phys Lett, 2002,81(5) : 789
  • 8Goncalves R R,Carturan G, Zampedri L, et al. Sol-gel Erdoped SiO2-HfO2 planar waveguides: A viable system for 1.5μm application. Appl Phys Lett,2002,81(1) : 28
  • 9Chryssou C E,Kenyon A J, Iwayama T S, et al. Evidence of energy coupling between Si nanocrystals and Er^3+ in ion- implanted silica thin films. Appl Phys Lett, 1999,75 (14)2011
  • 10Kozanecki A, Homewood K, Sealy B J. Sensitization of Er^3+ emission at 1.5μm in SiO2 thermally grown on silicon by coimplantation of Yb. Appl Phys Lett, 1999,75(6): 793

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