期刊文献+

未来制造业和加工业中的等离子体 被引量:10

PLASMA IN FUTURE MANUFACTURING AND PROCESSING INDUSTRIES
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 从两组元或三组元等离子体的一些基本性质出发,分析了等离子体在超大规模集成电路生产、扁平显示器技术、光导纤维生产和未来光计算机芯片制造、废物处理、新材料制备等中十分诱人的应用前景。 Prospective applications of plasma in the production of ultra large scale integrated circuits,the technology of flat panel displays,the manufacturing of optical fibers and (future) optical computing chips,waste disposal,and the preparation of various new functional materials are surveyed on the basis of its fundamental properties.
作者 邱孝明
出处 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期53-58,共6页 Nuclear Fusion and Plasma Physics
关键词 尘埃等离子体 鞘层 刻蚀 等离子体化学 库仑晶化 Dust plasma Sheath Etching Plasma chemistry Coulomb crystallization
  • 相关文献

参考文献4

  • 1顾琅,力学进展,1997年,27卷,56页
  • 2Chen F F,Phys Plasmas,1995年,2卷,2164页
  • 3邱孝明,力学进展,1990年,20卷,499页
  • 4丁宁,核聚变与等离子体物理,1987年,7卷,65页

同被引文献84

引证文献10

二级引证文献67

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部