摘要
以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4,TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH,TFE)为前驱体,采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见透射光谱等手段对样品进行分析,研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关系。结果表明:前驱体TFE的引入会在TiO2中掺入F并抑制薄膜中锐钛矿相的形成。光催化性能和亲水性能测试表明,沉积F掺杂TiO2薄膜的最佳TFE流量为5.94L/min。
A fluorine （F）-doped titania （TiO2）-based film on glass for self-cleaning purposes was prepared using Ti（OC3H7）4 and CF3CH2OH （TFE） as precursors by an atmospheric pressure chemical vapor deposition method.The effect of the TFE flow rate on the properties of the films was analyzed by scanning electron microscope,X-ray diffractometer and ultraviolet visible transmission spectrum.The results show that F can be doped into the TiO2 films,and the formation of anatase phase is suppressed by adding the TFE.The optimal TFE flow rate is 5.94 L/min.
出处
《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期58-63,共6页
Journal of The Chinese Ceramic Society
基金
国家教育部博士点基金(20050335040)资助项目
关键词
二氧化钛
氟
掺杂
常压化学气相沉积
自清洁
titania
fluorine doping
atmospheric pressure chemical vapor deposition
self-cleaning
