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离子注入对羽扇豆当代生长发育的影响 被引量:2

Effects of Implanted Ion on Plant Growth and Development of Lupinus Polyphyllus
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摘要 通过对羽扇豆种子注入不同种类和浓度的离子,研究了不同离子对羽扇豆当代生长发育的影响。结果表明:低能30 keV 3×10^17、5×1017ions/cm2的H+离子可降低羽扇豆的出苗率和成活率,而6MeV 1×1013、5×1013ions/cm2的C+离子和4MeV 9×1012ions/cm2的Cu+离子可提高羽扇豆的出苗率与成活率。不同离子注入处理对羽扇豆植株的株高、株幅、叶径、花色、结实率等无显著影响,但均可提前羽扇豆的花期14~20 d。 The growth and development of Lupinus polyphyllus seeds with different ion at different dosage implanted were studied. Results showed that the seedling emergence rate and survival rate was induced in the dosage 3 ×10^17 ,5 ×10^17 H+/cm2, hut improved in the dosage 1 ×10^18, 5 ×10^13 C-/cm2 . It's no significant impact on plant height, plant width, diameter of leaf, flower color and setting percentage, but can be ahead of florescence 14-20 days with different ion.
出处 《北方园艺》 CAS 北大核心 2009年第7期115-117,共3页 Northern Horticulture
基金 陕西省科学院青年创新发展专项基金资助项目(2007k-10)
关键词 羽扇豆 离子注入 生长发育 Lupinus polyphyllus lindl. Ion implantation Growth and development
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