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Si掺杂B_4C半导体的热电性能 被引量:3

Thermoelectric Properties of Si Doped B 4C Semiconductor
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摘要 本文探讨了掺Si对B4C半导体的热电性能(包括电导率、热导率及Seebeck系数)及显微结构的影响,应用小极化子跃迁机制。 Abstract The effect of doping Si in B 4C on the overall thermoelectric properties including electric conductivity, thermal conductivity and Seebeck coefficient as well as the microstructure of B 4C semiconductor is investigated. In terms of the small polaron hopping mechanism, the transport behavior of the Si doped B 4C semiconductor is discussed.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第8期579-582,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家教委跨世纪优秀人才基金
关键词 碳化硼 半导体材料 掺杂 热电性能 Doping (additives) Silicon
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