摘要
介绍了用离子束增强沉积法(IBED)制备立方氮化硼(c-BN)薄膜的主要研究单位及其研究内容和获得的结果。
This paper introduces the oversea research units which have prepared cubic
boron nitride (c-BN) thin films by ion beam enhanced deposition (IBED), their research works and experimental results.
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第1期36-38,共3页
Materials Reports
基金
国家自然科学基金
批号59472027
关键词
立方氮化硼
离子束增强沉积
离子轰击
制备
薄膜
Cubic boron nitride(c-BN), Ion beam enhanced deposition (IBED), Ion bombardment, Ion to atom arrival ratio
