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纳米器件的表面预处理和成品率

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摘要 近来,各种“后CMOS时代”的器件不断涌现,它们的用途广泛且发展潜力巨大。1针对这些器件的性能、表现学术界已经进行了大量的研讨,但是在器件生产制造以及提升成品率方面的研究却没有得到应有的重视。然而,如果期望在未来10年内这些器件能够由最初的研究阶段迈入发展阶段的活,相应的包括成品率提升、材料表面处理技术以及清洗技术等在内的可制造性研究会变得日益重要。
出处 《集成电路应用》 2008年第8期19-19,共1页 Application of IC
  • 相关文献

参考文献2

  • 1T.Hattori."Contamination Control:Problems and Prospects,"[].Solid State Technology.1990
  • 2.International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS)[]..2007

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