凸版印刷与IBM合作开发22纳米光掩膜

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摘要来自上海凸版（Toppan）光掩膜有限公司消息，日本凸版印刷株式会社近日宣布，已与IBM签署新的开发合约，它涵盖了后期的32纳米和全部22纳米光掩膜工艺开发。该项联合开发于2008年6月开始，在IBM的英国艾塞克斯郡的柏灵敦工厂进行。在此之前，凸版印刷与IBM在2005年已开始了45纳米光掩膜工艺的开发，并且在2007年延伸到了32纳米掩膜开发。

出处《集成电路应用》 2008年第8期15-15,共1页 Application of IC

关键词凸版印刷株式会社合作开发 32纳米 IBM 掩膜工艺开发膜工艺

分类号 TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学] TS853.6 [轻工技术与工程]

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集成电路应用

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