期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

金刚石薄膜应用研究的进展和趋势 被引量：2

Advances and Tetndency in Application Research of Diamond Films
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 简要总结了CVD金刚石薄膜应用研究的现状及进展.并结合CVD金刚石薄膜的市场前景和面临的难题,讨论了金刚石工具器件研究的趋势. The present and advances in application research of diamond films were simply reviewed,and based on the fu-ture market and confronted problems in applicetion of chemical vapor deposited diamond films,the research tenden-cy in this field was also discussed.
作者 唐壁玉 颜永红 夏金童 陈宗璋
机构地区 湖南大学化学化工学院
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第6期5-6,共2页 Surface Technology
关键词 CVD 金刚石薄膜 发展趋势 薄膜材料 CVD Diamond Films,Application Research, Advances and Tendency
分类号 TQ163 [化学工程—高温制品工业] TB43 [一般工业技术]
  • 相关文献

参考文献2

  • 1唐璧玉,靳九成,陈宗璋.金刚石薄膜的合成和应用[J].表面技术,1996,25(4):36-38. 被引量：2
  • 2Seiichiro Matsumoto,Yoichiro Sato,Masayuki Tsutsumi,Nobuo Setaka. Growth of diamond particles from methane-hydrogen gas[J] 1982,Journal of Materials Science(11):3106～3112

二级参考文献1

共引文献1

同被引文献18

  • 1董丽芳,尚勇,王志军.电子辅助热丝化学气相沉积金刚石薄膜中氢原子谱线与最佳成膜条件[J].人工晶体学报,2005,34(3):550-552. 被引量：2
  • 2朱宏喜,毛卫民,冯惠平,吕反修,Vlasov I I,Ralchenko V G,Khomich A V.甲烷浓度对CVD金刚石薄膜晶体学生长过程的影响[J].无机材料学报,2007,22(3):570-576. 被引量：10
  • 3Karner J,Pedrazzini M,Hollenstein C.High current d.c.arc (HCDCA) technique for diamond deposition[J].Diamond and Related Materials,1996,5(3-5):217-220
  • 4Haubner R,Lux B.On the formation of diamond coatings on WC/Co hard metal tools[J].Internal Journal of Refractory Metals and Hard Materials,1996,14(1-3):111-118
  • 5Reineck I,Sjstrand M E,Karner J,et al.Diamond coated cutting tools[J].Internal Journal of Refractory Metals and Hard Materials,1996,14(1-3):187-193
  • 6Karner J,Pedrazzini M,Reineck I,et al.CVD diamond coated cemented carbide cutting tools[J].Materials Science and Engineering,1996,209A(1):405-413
  • 7苗晋崎.硬质合金微米-纳米金刚石复合涂层工具及细晶金刚石涂层工具的研究[D].北京:北京科技大学,2004.81-83
  • 8MUSHTAQ A, ABUHIM D. Effects of Cobalt and Cobalt Oxi- de Buffer Layers on Nucleation and Growth of Hot Filament Chemical Vapor Deposition Diamond Films on Silicon (100) [ J ]. Korean Journal of Chemical Engineering, 2014, 31 (7) : 1271-1275.
  • 9GROTJAHN T, ASLANBAS O, MEE M, et al. Plasma Pa- rameter Investigation during Plasma-enhanced Chemical Va- por Deposition of Silicon-containing Diamond-like Carbon Films [ J 1. Surface & Coatings Technology, 2013,237: 126-134.
  • 10MITURA N M, KARCZMARSK A A, MARCZEWSKA B, et al. TL Characterization of CVD Diamond Films Deposited at Different Growth Parameters [ J ]. Physical Status Solid Ap- plications and Materials Science, 2013,210 (10) : 2083- 2087.

引证文献2

二级引证文献3

表面技术
1997年 第6期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部