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旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
被引量：
6
Multi Arc Ion Plating Equipment by Revolving Magnetron Cylindrical Arc Source
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摘要
本文介绍了旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机的特点和所镀氮化钛膜的组织。
Abstract The paper recommended peculiarity of multi arc ion plating equipment by revolving magnetron cylindrical arc source and microstructure and property.
作者
王福贞
机构地区
北京新源机电技术开发部
出处
《真空》
CAS
北大核心
1997年第2期43-45,共3页
Vacuum
关键词
旋转磁控
柱状弧源
多弧离子镀
氮化钛
镀膜机
分类号
TB43 [一般工业技术]
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