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CVD参数数据采集系统 被引量:1

Data Acquisition System for Chemical Vapor Deposition Parameters
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摘要 在CVD金刚石膜生长过程中,衬底温度、热丝电流、反应室真空度和气源流量等是其重要的工艺参数。针对CVD金刚石膜沉积生长中四个重要的工艺参数,本文设计了数据采集系统。选用片内集成模拟量采集模块的8098单片机为下位机,上位机采用工控机,通过RS232串口进行通信。该主从式数据采集系统,硬件配置简单,抗干扰能力强,软件编程方便,人机界面友好。该系统己通过调试,运行良好。 The substrate temperature, hot-filament electrical current, vapor pressure in the room and reaction gas fluxc are key parameters in the process of CVD diamond film growth. In order to acquire the key parameters that affect the preparation of CVD diamond films, a data acquisition system based on the upper and lower computer is designed. RS232 is used as the serial communication interface. The system has the advantages of simple hardware configure, interference-free, convenient software orogramming and friendlv man-machine interference.
作者 褚向前 朱武
出处 《自动化技术与应用》 2007年第10期119-120,96,共3页 Techniques of Automation and Applications
关键词 8098单片机 数据采集系统 串行通讯 8098 microcontroller data acquisition system serial communication
  • 相关文献

参考文献2

  • 1ZUO D.W.,SONG S.L.,XIANG B.K,et al.Some key points for EACVD thick diamond film preparation[J].Key Engineering Materials. 2004, 258-259 : 517-521.
  • 2孙涵芳.MCS-51/96系列单片机原理及应用[M].北京:北京航空航天出版社,2003.

共引文献3

同被引文献2

引证文献1

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