真空沉积技术的发展趋势
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1张振林.ITO薄膜的制备工艺及进展[J].电子材料与电子技术,2007,34(4):1-4. 被引量：1
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2师庆华.多晶薄膜电致发光显示器中的ZnS:Mn[J].液晶与显示,1989,9(Z1):16-20.
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3王茂祥,吴建宁.与等离子体相关的真空沉积技术及其应用[J].电子工程师,1999(7):1-3.
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4冯煜东,张福甲.有机半导体器件的真空镀膜技术[J].真空科学与技术学报,2006,26(z1):75-78.
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5刘舸,刘明,商立伟,涂德钰,刘兴华,王宏,柳江.Active layer self-protection process for organic field-effect transistors[J].Journal of Semiconductors,2009,30(9):45-48.
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6杨成刚.铝导带薄膜混合集成电路工艺[J].电子元件与材料,1997,16(5):47-50.
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7芮祥新,季振国,王龙成,汪茫,上田裕清.真空沉积酞菁铅和酞菁氧钒层状纳米复合膜的吸收光谱研究[J].高等学校化学学报,2002,23(12):2360-2362. 被引量：2
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8李连节,王科志,刘惟敏,黄春辉,黄惠忠.真空沉积强荧光稀土配合物薄膜的研究[J].真空科学与技术,1996,16(2):87-90.
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9真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺[J].电子科技文摘,2003,0(5):29-30.
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10王茂祥,吴宗汉,孙承休.多弧离子镀技术中的真空放电过程[J].物理,1997,26(7):431-434. 被引量：7
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