摘要
制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.
The molds for nanoimprint is very important for nanoimprinting. Many hard materials have been used to make molds. But these materials are difficult to fabricate. In this paper we present a novel technique for making molds based on the modification of polymer by focused ion beam irradiation. This technique is very fast and simple. It can be used in many other domainus of nanofabrication.
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期6511-6514,共4页
Acta Physica Sinica
基金
中国科学院"百人计划"资助的课题.~~
