摘要
概述 光刻机是生产半导体器件的重要工艺设备之一,它可分为工作台对准系统和光学曝光系统两大部分。对于一台性能优良的光刻机光学曝光系统起着不容忽视的作用。近代发展起来的光刻机在曝光系统上采用了一系列新技术,例如在光学设计上采用复眼透镜组来减少光学衍射效应,提高光的均匀性;在幅照光源上采用恒光强控制(如Rarlsu-ss,uv系列光刻机);对曝光时间采用积分曝光(如Canon PLF-500系列光刻机)等。本文仅从电学角度来论述光刻机的曝光控制系统,并对某些专题进行较详细地分析,以便读者可有一深入和系统了解。
出处
《电子工业专用设备》
1989年第3期8-11,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
