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APC技术在化学机械研磨工艺中的应用 被引量:1

Application of APC Technique in CMP Craft
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摘要 介绍了基于化学机械研磨(CMP)工艺,在Unix和SDT的开发环境下,用VB、C语言在Client和DB(Data Base)之间建立APC SDT Server的方法,以及创建Oracle数据库表的方法,实现了系统用户界面、核心APC Server和数据库表的设计。 The technique of CMP was introduced, with the Unix and the SDT development environment, using the VB, the language establish APC SDT Server between client and DB, the Oracle database form was created, user interface was realized, and the system of APC function was verified.
作者 秦彩云 金翠
出处 《辽宁化工》 CAS 2006年第7期407-409,共3页 Liaoning Chemical Industry
关键词 化学机械研磨 计算机技术 自动控制 APC系统 CMP Computer Technology Auto Control APC System
  • 相关文献

参考文献7

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  • 2王建荣.半导体平坦化CMP技术[M].台湾:全华科技图书股份有限公司,1998.
  • 3孙洪昌.Oracle应用系统开发工具.清华大学出版社,2000:50—53
  • 4W3C Recommendation Voice Extensible Markup Language(VoiceXML) Version2.0.16 March 2004
  • 5Unix应用大全.卢亮机械工业出版社
  • 6Range Wang. SDT introduction. Semiconductor Manufacture International Corporation (SMIC), 2004
  • 7Range Wang. New APC Table. Semiconductor Manufacture International Corporation(SMIC),2004

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同被引文献5

引证文献1

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