轴承套圈离子注入靶的设计

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摘要离子注入靶是离子束辅助沉积工艺中的重要部件，它主要山驱动、夹头和冷却三部分组成。驱动部分采用齿轴减速系统；夹头有内圈夹头、外圈夹头两种，分别用于内圈、外圈的沟道表面离子注入；主轴的冷却除采用循环水冷却外，还用水冷挡板保护主轴，以免遭注入离子的溅射。

作者姜万歧

机构地区哈尔滨轴承股份有限公司

出处《轴承》北大核心 1996年第6期21-24,共4页 Bearing

关键词轴承套圈离子注入

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轴承

1996年第6期

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