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172nm辐射降解恶臭气体二硫化碳的研究 被引量:5

Investigation of 172 nm Radiation for Degradation of Toxic Gas Carbon Disulfide
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摘要 用氙准分子灯的172 nm真空紫外辐射在无外加氧化剂的情况下直接光降解恶臭气体二硫化碳。研究表明,二硫化碳的降解率随初始进气浓度的升高而降低,随管道内二硫化碳停留时间的增加(降低风速)而增大,并且发现潮湿空气有助于提高二硫化碳的降解率。讨论了二硫化碳在172 nm辐射作用下的降解机理。 The photodegradation of carbon disulfide was achieved by 172 nm vacuum ultraviolet (UV) radiation emitted from a cylindrical xenon excimer lamp without addition of oxidants. It was found that the degradation rate of carbon disulfide decreased with increasing initial concentration and flow rate. Moisture in the air contributed to an increase of the degradation rate. The degradation mechanism of carbon disulfide by 172 nm radiation was discussed.
出处 《化学世界》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期257-259,共3页 Chemical World
关键词 172nm 辐射 二硫化碳 光降解 172 nm radiation carbon disulfide photodegradation
  • 相关文献

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共引文献13

同被引文献93

引证文献5

二级引证文献20

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