国外超高纯及超细纳米材料

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摘要 1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中，用作化学机械抛光（CMP）的抛光剂日本Fuso chemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅．其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止．水溶性胶体二氧化硅的最高含量12％．该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺．使其二氧化硅含量高达40％。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80％。

作者陶道敏(译)

机构地区天津化工研究设计院

出处《无机盐技术》 2006年第1期12-13,共2页 Inorganic Chemicals Technology

关键词超高纯 chemical公司纳米材料化学机械抛光(CMP) 胶体二氧化硅二氧化硅含量超细国外合成工艺半导体生产

分类号 TQ221.23 [化学工程—有机化工] TS853.5 [轻工技术与工程]

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无机盐技术

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