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新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应 被引量:1

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摘要 采用Sonogashira偶联反应,制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物.这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性.其光谱性质和光电流响应结果表明,聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素,且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生.
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期524-531,共8页 Chinese Science Bulletin
基金 国家自然科学基金(批准号:20225415,20423003和20374053) 国家基础研究发展规划(批准号:2002CB613401)资助项目.
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参考文献40

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同被引文献13

引证文献1

二级引证文献22

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