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一种用于制作多层膜的溅射蚀刻靶及其转台系统

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摘要本文介绍一种由旋转驱动转台带动四个溅射蚀刻靶的系统。利用这种系统，可通过射频或直流溅射法在不同基片上沉积出连续的薄膜与厚膜。并给出了制作单层膜和银、铜多层膜的溅射速率和溅射蚀刻速率，讨论了离子蚀刻银、铜多层膜的表面结构。

作者叶粳

出处《电子工业专用设备》 1996年第1期56-60,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词溅射蚀刻靶转台系统多层膜

分类号 TN305.92 [电子电信—物理电子学]

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电子工业专用设备

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