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MOS控制晶闸管的三重扩散工艺研究 被引量:3

The Investigation of Triple Diffusion Process for MOS-Controlled Thyristor
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摘要 本文对MCT的核心工艺──三重扩散工艺进行了详细研究。通过SUPREM—Ⅲ计算机工艺仿真,获得了三重扩散的工艺条件。对三重扩散实验样品进行的扩展电阻、磨角以及四探针方块电阻测试表明:获得了优化的器件设计和研制条件。本文设计并成功研制的新结构DOFM-CT器件,其电流可控能力达134A/cm2。 The key fabricating process of MCT-the triple diffusion is investigated. The process conditions are obtained by process simulator SUPREM-Ⅲ. The measurement results of spreading resistance,bevel and sheet resistance indicate that optimum design and fabrication are fulfilled. The new structure of DOFMCT with turn off capability of 134A/cm2 is designed and fabricated successfully ,
出处 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期63-66,共4页 Acta Electronica Sinica
基金 国家自然科学基金
关键词 三重扩散 MOS控制晶闸管 工艺 场效应器件 Triple diffusion ,MOS-controlled thyristor ,Process simulation
  • 相关文献

参考文献2

  • 1李学宁,第八届全国IC&Si材料学术会议论文集,1993年
  • 2Huang Q,SSE,1992年,35卷,2期,187页

同被引文献4

引证文献3

二级引证文献2

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