摘要
作者对6例牙列缺失患者,采用开、闭口两种印模法,制取12副上颌模型。分别测量腭穹窿的高度和宽度,进行比较分析。结果闭口印模灌注的石膏模型,其腭穹窿图的高度(垂直线段)和宽度(水平线段),绝大多数都略长于开口印模对应的线段,经t检验P<0.05。采用闭口印模法,基托下软组织腭顶部压缩量0.40±0.31mm,腭侧壁压缩量0.34±0.28mm。因此闭口印模法是一种功能性印模方法,可能更符合基托下组织在功能活动中的状态。
出处
《口腔医学纵横》
CSCD
1996年第3期152-153,共2页
Journal of Comprehensive Stomatology