薄膜内应力

Internal Stress of Film

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摘要由于膜层与基片和膜层之间材料性质不同而产生的应力，包括薄膜在沉积过程中由于膜层从膜表面到基片表面的温度梯度所引起的应力，膜层内部缺陷所产生的应力，膜层克分子体积变化所产生的应力。主要与材料性质和工艺等因素有关，一般表现为薄膜张应力。

作者阎雪涛王轲（审核）

出处《导航与控制》 2005年第4期4-5,共2页 Navigation and Control

关键词内应力薄膜材料性质温度梯度沉积过程内部缺陷体积变化膜表面膜层张应力

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导航与控制

2005年第4期

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