化学汽相淀积技术（十八）
-
1沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（二十）[J].半导体杂志,1989,14(3):48-53.
-
2沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（十九）[J].半导体杂志,1989(2):47-54.
-
3沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（22）[J].半导体杂志,1992,17(3):38-48.
-
4沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（二十一）[J].半导体杂志,1990,15(1):48-53.
-
5侯印春.用激光化学汽相淀积制作微透镜[J].国外激光,1991(5):34-36.
-
6张正德,黄以明,章其林.大功率GaAs/GaAlAs单量子阱激光器[J].半导体情报,1993,30(3):48-53.
-
7陈胜义.低温常压化学汽相淀积二氧化硅膜和掺磷二氧化硅工艺研究[J].延河集成电路,1992(2):47-51.
-
8宋国瑞,姚惠贞,兰祝刚.激光化学汽相淀积薄膜微透镜的设计与实践[J].光电子技术,1996,16(3):201-208.
-
9李松法.化学束外延介绍[J].半导体情报,1990(3):10-15.
-
10侯印春.激光化学汽相淀积[J].国外激光,1991(5):31-34.
;
