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Al的沉积速率对Al/Ge双层膜分形晶化的影响

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摘要 Al/Ge薄膜中斑图(pattern)的形成是一种非平衡生长现象,随着非线性科学的发展,近年来这方面的工作引起了人们极大的兴趣.较有代表性的工作如Deutscher和Lereah在原位退火Al-Ge非晶合金膜时发现的密集分叉形貌(Dense branching morphology),Sanchez等人观察到的多标度分形生长等.由于非线性系统对初始生长条件、边界条件细微变化固有的敏感性,不同形貌班图精确的形成条件是难以预测的,即使在相同的实验条件下。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第15期1363-1365,共3页 Chinese Science Bulletin
基金 国家自然科学基金 中国科学技术大学基金资助项目
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参考文献1

  • 1李伯泉,Phys Rev B,1993年,47卷,4期,3638页

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