单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜摩擦性能研究

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摘要采用单源低能离子束辅助沉积的方法，制备了非晶碳薄膜，分别用喇曼光谱，俄歇电子能谱了薄膜的结构，薄膜为无定形的类金刚石薄膜，薄膜中石墨键（ＳＰ＾２）所占的比重较大，沉积时随着离子束能量及束流的增加，薄膜的显微硬度，摩擦系数，摩擦寿命均增加，类金刚石薄膜具有较好的摩擦性能。

作者朱宏刘惠文

出处《科技通讯（上海）》 CSCD 1995年第1期14-20,共7页

关键词离子束辅助沉积类金刚石薄膜摩擦性能

分类号 TB43 [一般工业技术] O613.71 [理学—无机化学]

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