摘要
七、超高真空（一） 清洁真空的获得清洁真空与超高真空技术本章将要介绍清洁真空的获得问题,它与镀膜技术略有偏离。在超大规模集成电路制作中所要求的镀膜技术必然是生长清洁的薄膜,其不可缺少的条件是清洁真空的获得。清洁真空的获得离不开超高真空技术。清洁真空为什么是必要的?迄今为止,只是偶而提及,下面重新加以说明。无论是真空蒸发还是真空溅射,在基底上每平方厘米的面积上,每秒总有10<sup>15</sup>
出处
《真空与低温》
1989年第2期47-61,共15页
Vacuum and Cryogenics
