内石墨真空性能的初探被引量：3

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摘要用动态法测量了国产和日本内石墨在烘烤期间的放气量,借助回旋质谱计分析了两种石墨在高能电子轰击过程中的放气及存放过程中的残余气体。结果表明,国产和日本内石墨在烘烤时的放气量在4Pal左右,但在电子轰击下国产内石墨的放气量比日本内石墨大。

作者陈章其吴冲若

出处《真空电子技术》北大核心 1989年第5期12-15,共4页 Vacuum Electronics

关键词石墨真空性能电子束器件导电层

同被引文献11

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真空电子技术

1989年第5期

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